Rečnik komunikacionih tehnologija

Epitaxy

To je epitaksija pomoću molekularnog zraka. Proces fabrikacije silicijumskih obloga izuzetnog kvaliteta. Proces uključuje zagrevanje elementa ili složenog spoja u peći za livenje do temperature koja je dovoljna za oslobađanje nekih atoma. Neki atomi ili molekuli uvedeni su u vidu linearnog mlaza u vakuumsku komoru, gde se talože na supstrat (tj. osnovu) silicijuma, po jedan atomski, ili molekularni sloj u jednom trenutku. Dobija se obloga koja se sastoji od filmova čija se debljina može meriti na atomskom ili molekularnom nivou, s tim da svaki film ima identičnu strukturu kao i obloga supstrata. Epitaksiju pomoću molekularnog zraka usavršio je A.Y. Cho u Bell Telephone Laboratories. Proces fabrikacije su izmislili Kleimack, Load, Ross i Theuerer 1960. godine u Bell Labsu, kao odgovor na zahtev za razvoj slojevitih poluprovodnika i poluizolatora sa preciznom debljinom filma. Epitaksija je omogućila proizvodnju high-speed tranzistora koji se pakuju u milionima na silicijumske čipove. Osim toga, koristi se u proizvodnji optoelektričnih komponenata i high-speed magnetnih uređaja za skladištenje podataka.